ImpFlex Essential

ImpFlex Essential
低価格 UVナノインプリント装置

ImpFlex Essential

従来のフォトリソグラフィーに比べ、高微細化、低コスト、高スループットで
次世代の微細加工技術として注目を集めるナノインプリントリソグラフィー。
本装置は上位機種であるImpFlexをベースに徹底的なコストダウンを行った低価格モデルです。
低価格でありながら低残膜と膜厚均一化を実現するインプリントエンジンは上位継承しています。

1. 低残膜、膜厚均一性の高いImpFlexと共通のインプリントエンジン搭載!
2. 徹底的なコストダウンにより低価格を実現!
3. バブル消去ガスプロセス対応!
4. 多種モールドに対応可能!
5. 豊富なオプションによりアップグレードが可能!

 特長

1. 高精度な構造転写を実現


データベース補正後の停止位置と位置ずれ
独自のパラレルメカによる「SOFTステージ」は繊細な転写動作を実現し、最小限の転写欠損、ナノレベルのパターン成形が可能です。 また、新開発LED光源により均一にUVの照射が可能となり、低エッジラフネスを実現しました。


2. バブル消去ガスプロセス対応


バブル消去ガスプロセスと大気プロセスの比較
本装置はバブル消去ガスプロセスに対応可能です(オプション)。
バブル消去ガスプロセスにより大気中インプリントでもバブル欠損の発生を抑制できます。

3. 多種モールドに対応


モールドサイズ□10mmから最大90mmまでの転写が可能です。
また、モールド材料は石英の他にオプションでNi電鋳などの他の材料も使用可能です。

 ご注文について


当製品のご注文・お問い合わせは、株式会社三明までお願いいたします。

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